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檢測(cè)需求為表面不能有劃痕磕傷邊緣磕碰

為了兼容多重類型缺陷,檢測(cè)方式采用明場(chǎng)和暗場(chǎng)分兩次曝光的檢測(cè)方式,明場(chǎng)使用同軸光檢測(cè)表面明顯劃傷磕碰等缺陷,低角度四面可調(diào)光做暗場(chǎng)檢測(cè)較為輕微的邊緣磕碰以及表面擦傷。


四面可調(diào)也可為后期檢測(cè)難度更大缺陷分四次曝光,使用2.5D檢測(cè)方式檢測(cè),檢測(cè)類似輕微凹陷變形等缺陷

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